529A双轴低噪声 IEPE 加速度传感器如何在半导体设备状态监测应用?

✅ 一、适用于半导体设备的监测场景

  1. 微振动监测

    • 半导体制造设备(如光刻机、晶圆检测台、精密平台)对微振动极为敏感,振动会影响对准精度和成像质量。

    • 529A 具有超低噪声谱密度(如 100Hz 时仅 0.26 µg/√Hz),能捕捉极微弱的振动信号。

  2. 结构健康监测

    • 可用于监测设备基座、支架、隔离平台等结构件的振动状态,预防因振动引起的设备偏移或损坏。

  3. 模态分析与故障诊断

    • 通过双轴测量,可分析设备在运行中的振动模态,识别异常振动源,辅助进行 predictive maintenance(预测性维护)。


✅ 二、产品技术优势与半导体设备的匹配性

特性 说明 对半导体设备的益处
低频响应优异(0.3 Hz) 可捕捉极低频振动 适合监测慢速运动平台、地基振动等
高灵敏度(500 mV/g) 信号输出强度高 提高信噪比,便于检测微小振动
双轴测量 同时测量两个方向的振动 全面评估振动对设备的多向影响
钛合金焊接密封(IP67) 耐腐蚀、防尘防水 适应洁净室环境,长期稳定
外壳隔离设计 减少地回路干扰 提高信号纯净度,适合高精度系统
宽温范围(-50°C ~ +100°C) 适应多种环境 可用于设备内部或高温区域监测

✅ 三、推荐配套系统配置(用于半导体设备监测)

组件 推荐型号 功能说明
传感器 529A-10(10g量程) 适用于微振动监测
配套线缆 13M4-3(4针转3×BNC) 连接传感器与采集设备
信号调理器 IN-03(3通道IEPE) 提供激励信号并调理输出
数据采集系统 IN-3062(8通道) 多通道同步采集,适合整机监测
分析设备 IN-91(便携式振动分析仪) 现场快速诊断与频谱分析

✅ 四、典型应用示例

  • 光刻机振动监测:安装于镜台、基座,监测外部振动对曝光精度的影响。

  • CMP设备振动分析:监测抛光头的振动状态,预防晶圆损伤。

  • EFEM/Loadport振动检测:评估晶圆传输过程中的机械振动。

  • 厂务设施振动监测:如风机、泵机等辅助设备对洁净室振动的影响评估。


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